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旋转等离子体处理仪

放大字体  缩小字体 发布日期:2022-12-19 15:37:27    浏览次数:78
导读

  旋转等离子体处理仪VP-TS7解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不充分,不均匀的痛点,真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转,从而带动粉末样品在真空环境下翻滚,从而确保的样品得到充分、均匀的等离子处理。VP-TS7样品腔材质不锈钢,腔体容积7L,转速可调,可关闭(不旋转相当于普通真空等离子处理仪),一机两用,

  旋转等离子体处理仪VP-TS7解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不充分,不均匀的痛点,真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转,从而带动粉末样品在真空环境下翻滚,从而确保的样品得到充分、均匀的等离子处理。VP-TS7样品腔材质不锈钢,腔体容积7L,转速可调,可关闭(不旋转相当于普通真空等离子处理仪),一机两用,性价比很高。旋转等离子体处理仪VP-TS7频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行3分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于乙二醇粉末、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的处理。
VP-TS7 旋转等离子体处理仪的研制成功是善准人不断拼搏、勇于创新的z好体现,打破了国外厂商对此技术的垄断,目前已获得国家专利(一种旋转型不锈钢等离子表面处理装置,专利号:ZL2020202275512),为中国智造在该领域进入世界级lx水平贡献自己的力量。
VP-TS7旋转等离子体处理仪解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不完全,不均匀的痛点,真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转,从而带动粉末样品在真空环境下翻滚,从而确保的样品得到充分、均匀的等离子处理。
VP-TS7频率13.56MHz,腔体采用不锈钢(腔体容积7L),旋转等离子体处理仪转速可调,可关闭(不旋转相当于普通等离子体处理仪),一机两用,性价比很高。
更多详情请咨询:https://www.chem17.com/st432636/erlist_2396531.html
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(文/小编)
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