PLASMA等离子清洗机VP-R3对标国际一线厂家，打破国内技术空白（低温真空石英腔体等离子清洗装置），真空腔体石英玻璃材质，两路进气通道，进气量可调，流量实时监测，数显真空检测，PLASMA等离子处理结束，自动泄压并实时观察自动泄压动态，中英文操作系统，触摸屏自动控制，功率160W，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
内置两路气路，气体流量可调，无需再搭配，气体混合仪
真空等离子处理仪控制软件、操作简易，智能化设计，避免误操作
采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况
中英文操作系统，触摸屏控制，人机界面友好
清洗时长可在触摸屏设置，等离子处理时间精确到秒(s)
PLASMA处理结束，自动泄压，泄压时长和大小可调，可通入氮气泄压
功率高、中、低三挡可调
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