旋转粉体等离子清洗机VP-T3解决了微小颗粒特别是粉末样品PLASMA处理不充分，不均匀的痛点，真空腔体在等离子处理过程中滚动旋转，从而带动粉末样品在真空环境下翻滚，从而确保的样品得到充分、均匀的等离子处理。VP-T3样品腔石英玻璃材质，腔体容积3L，转速可调，可关闭（不旋转相当于普通真空等离子清洗机），一机两用，性价比很高。旋转粉体等离子清洗机VP-T3频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于石墨烯粉末、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的处理。
石墨烯粉末VP -T3处理XPS谱图分析
处理前石墨烯粉末溶于蒸馏水时，会粘在玻璃壁上
处理后石墨烯粉末上下摇匀后，不会粘在玻璃瓶壁
处理前石墨烯粉末很快下沉到玻璃瓶底，肉眼可见中间透明
处理后石墨烯粉末悬浮在水体，说明其亲水性增强
绿色曲线为处理前的XPS谱图，曲线一-直都是平稳走向
红色曲线为处理后XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，可知石墨烯粉末的性质已改变
处理后可提高40%导热性能和提高石墨烯的稳定性
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