ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计，是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。通过优化的二次离子收集光学系统 和超高真空设计，提供了薄膜结构检测中的掺杂组分和常见杂质所需的灵敏度。
特点:
1）大束流低能量离子设备设计，极大的提高了深度分辨率
2）高性能离子光学系统，改善了二次离子传输效率，在提高分析效率的同时又提高了检测灵敏度
3）高精度全自动5轴样品操控台
4）不同方向进入检测器的二次离子，均可被高灵敏地收集检测
应用实例分析
采用一次离子源Cs在加速5kV束流为100nA的条件下，分析GaAs中注入的H，C，O元素。可以看到H检测限值7.1X1016 atm/cm3，O检测限值4.4X1015 atm/cm3，C检测限值2.0x1015 atm/cm3。
ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计，是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。通过优化的二次离子收集光学系统 和超高真空设计，提供了薄膜结构检测中的掺杂组分和常见杂质所需的灵敏度。
特点:
1）大束流低能量离子设备设计，极大的提高了深度分辨率
2）高性能离子光学系统，改善了二次离子传输效率，在提高分析效率的同时又提高了检测灵敏度
3）高精度全自动5轴样品操控台
4）不同方向进入检测器的二次离子，均可被高灵敏地收集检测
应用实例分析
采用一次离子源Cs在加速5kV束流为100nA的条件下，分析GaAs中注入的H，C，O元素。可以看到H检测限值7.1X1016 atm/cm3，O检测限值4.4X1015 atm/cm3，C检测限值2.0x1015 atm/cm3。
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