GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
该设备支持从晶圆级母模具表面自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。内置的点胶系统、APC（主动模具基底平行控制）技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学生产的精度、均匀性（TTV）与良率。同时，自动模具基底对位系统还可实现晶圆之间对位堆叠工艺（WLS-Wafer Level Stacking）。
GL8 MLA纳米压印设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。
GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备主要功能
●经过量产验证的200mm晶圆级光学生产（WLO）设备
●APC主动模具基底平行控制技术，确保大面积晶圆压印TTV均匀性
●设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本
●内置自动点胶功能
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●标配设备内部洁净环境与除静电装置
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括标准示范WLO等工艺流程，帮助客户零门槛达到高质量的纳米压印水平
https://www.chem17.com/st472071/product_38112490.html
http://www.qdgermanlitho.com/Products-38112490.html
